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PVD物理氣相沉積采用低電壓大電流的電弧放電技術，通過荷能粒子的轟擊，將其吸引并沉積到工件表面形成3~5um的超硬薄膜層。利用PVD法可在工件表面沉積類金剛石dlc、氮化鈦TiN、氮化鉻CrN、DLC、TiAIN等單層多層復合涂層。

離子束DLC:碳氫氣體在離子源中被離化成等離子體，在電磁場的共同作用下，離子源釋放出碳離子。離子束能量通過調整加在等離子體上的電壓來控制。碳氫離子束被引到基片上，沉積速度與離子電流密度成正比。星弧涂層的離子束源采用高電壓，因而離子能量更大，使得薄膜與基片結合力很好;離子電流更大，使得DLC 膜的沉積速度更快。

DLC膜層是一種由碳元素構成的類似鉆石的碳薄膜，具有優異的硬度、耐磨性和化學穩定性。在許多領域中，DLC膜層被廣泛應用于減摩、潤滑、防腐蝕等方面。然而，熱膨脹是 DLC膜層應用過程中需要考慮的一個重要因素。

由于DLC膜層中含有較高比例的碳元素，其熱膨脹系數通常較低。這是因為碳元素的原子半徑較小，原子間的結合力較強，使得DLC層在溫度變化下的膨脹程度較小。此外，DLC膜層中還可能摻雜其他元素，如氫、氮、硅等，這些元素的加入會對膨脹系數產生一定的影響。

DLC膜層參數

1.硬度極高(超過Hv2000-Hv4500):代表耐性極好;

2.摩擦系數低(DLC=0.04):改善拉伸五金沖壓、成型的潤滑問題;

3.耐高溫(最高達到350℃):不容易氧化，改善干切削和壓鑄成型問題;化學屏障/導熱率低:可有效防止因高溫導致硬質合金刀具的鉆元素流失:改善壓鑄出現的熱龜裂問題;

4.厚度可控制在1-5微米以內:涂層后不影響產品的最終尺寸