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       類金剛石膜是以石墨或碳氫化合物等為原料，在低溫低壓下人工合成的一種含有SP3和SP2鍵的非晶碳膜。由于其具有一系列與金剛石相接近的優(yōu)良性能和結(jié)構(gòu)特征，國內(nèi)外科技工作者對DLC膜的制備工藝、結(jié)構(gòu)形態(tài)、物理測定、應(yīng)用開拓和專業(yè)化生產(chǎn)等方面進行了廣泛的研究,采用陽極型氣體離子源結(jié)合非平衡磁控濺射復(fù)合技術(shù)的方法，制備Cr過渡層的DLC/wcc薄膜，并對其膜層性能、界面、結(jié)構(gòu)及成分分布等進行了分析，以期為制備優(yōu)質(zhì)的DLC膜積累有用的特性數(shù)據(jù)。

       采用陽極層流型矩形氣體離子源，并結(jié)合非平衡磁控濺射進行摻鎢類金剛石薄膜沉積。主要沉積DLC薄膜:當(dāng)在磁控靶前面時，主要沉積wcc薄膜，最終實現(xiàn)DLC/WCC多層膜的制備。

       DLC/wcc薄膜(約2200nm)。膜層總厚度約2.7um;顯微硬度HV0.025,15為3550，明顯高于摻鈦類金剛石膜的硬度(HV0.025,15為2577);摩擦因數(shù)為0.139(與鋼對磨)。

        所沉積的膜層與較軟的Ti6AI4V基體結(jié)合良好，劃痕邊緣沒有明顯的崩膜，到52N后才露出基體，也就是膜基結(jié)合力達到了52N，達到工業(yè)應(yīng)用離子鍍TiN薄膜的膜/基結(jié)合水平。

1、膜層厚度2.7μm，硬度為3550HV，與鋼對磨時摩擦因數(shù)為0.139，在Ti6AI4V鈦合金上膜/基結(jié)合力達52N。

2、WCC/DLC多層膜，調(diào)制周期為4nm。

3、DLC/wcc薄膜仍呈現(xiàn)出類金剛石膜的主要特征