物理氣相沉積PVD是利用某種物理過(guò)程,如物質(zhì)的熱蒸發(fā)或受到粒子轟擊時(shí)物質(zhì)表面原子的濺射等現(xiàn)象,實(shí)現(xiàn)物質(zhì)原子從源物質(zhì)到沉積涂層的可控轉(zhuǎn)移過(guò)程,是在分子、原子的尺度上沉積涂層PVD涂層技術(shù)具有沉積溫度低、對(duì)基體影響小、能制備多層復(fù)合納米涂層結(jié)構(gòu)、綠色環(huán)保等特點(diǎn)。
基本上所有的金屬及非金屬材料都可以采用PVD涂層的方式進(jìn)行涂層,它可以通過(guò)靶材或蒸發(fā)源等材料源直接沉積而獲得源物質(zhì)的涂層材料,也可以在此基礎(chǔ)上通入其他的反應(yīng)性氣體,并通過(guò)反應(yīng)沉積獲得包含源物質(zhì)成分和反應(yīng)氣體成分的化合物涂層材料。
1、由于表層的涂層材料具有極高的硬度和耐磨性,故與末涂層硬質(zhì)合金相比,涂層硬質(zhì)合金允許采用較高的切削速度,從而提高了加工效率:或能在同樣的切削速度下大幅度地提高刀具耐用度。
2、由于涂層材料與被加工材料之間的摩擦系數(shù)較小,故與未涂層刀片相比,涂層刀片的切削力和切削刃溫度有一定降低。
3、涂層刀片加工時(shí),已加工表面質(zhì)量較好
4、環(huán)保,真空鍍膜是在真空爐里進(jìn)行,不會(huì)產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)和氣體,對(duì)環(huán)境無(wú)不利影響;而水電鍍是在含鍍層金屬溶液里進(jìn)行,會(huì)帶來(lái)嚴(yán)重的環(huán)境污染。
5、成本,水電鍍因工藝較簡(jiǎn)單,從設(shè)備到環(huán)境的要求均沒(méi)有PVD苛刻,水電鍍?cè)诔杀旧嫌袃?yōu)勢(shì)。
6、鍍層性能,同樣的膜厚下,PVD鍍膜膜層與工件表面的附著力更大,可以折彎90度以上不發(fā)生裂化或者剝落,膜層的硬度更高,耐磨性和耐腐蝕性更好,膜層的性能也更穩(wěn)定;但通常情況下,水電鍍的膜厚比真空鍍的厚,水電鍍膜厚一般為15~20um,真空電鍍的膜厚一般為0.3μm~5μm,其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm~1μm,因此,為保證真空鍍膜的附著力,均需后續(xù)進(jìn)行特殊的噴涂處理,比如過(guò)一層UV油。
7、膜層的種類與顏色, 水電鍍可以鍍的膜層的種類只有鍍金屬和合金,顏色較單調(diào),常用一般只有亞銀色、灰銀,槍色,金色,黑鉻色,半光鉻等幾種;PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類更為廣泛(包括金屬和非金屬),可以鍍出的各種膜層的顏色也更多,甚至可以鍍閃銀、魔幻藍(lán)、裂紋、水滴銀等五花八門的顏色或七彩色;
8、材料適應(yīng)范圍,對(duì)于塑膠材料,水電鍍通常只能對(duì)ABS塑膠和少量的ABS+PC塑膠材料上進(jìn)行電鍍加工,具有一定的局限性,而真空電鍍工藝可以適用的塑膠材料范圍相當(dāng)廣,除了ABS、ABS+PC塑膠之外,真空電鍍還可以在PC、PP、PMMA、PA、PS、PET等常見(jiàn)工程塑膠表面加工出金屬鍍膜效果,隨著技術(shù)的發(fā)展成熟,目前甚至可以在軟性塑膠表面進(jìn)行真空鍍膜加工了,比如TPU、TPE、PVC軟膠、硅膠、橡膠制品等;
9、鍍層的單面性;PVD涂層可以單獨(dú)對(duì)工件的外表面、或者單獨(dú)對(duì)工件的內(nèi)表面進(jìn)行真空鍍,另一表面可以保留塑膠原有的外觀和功能,水電鍍由于采用的是浸泡式的電鍍方式,工件的內(nèi)外表面都被電鍍,如需局部不被電鍍,可以通過(guò)涂絕緣油或貼特殊的膠紙進(jìn)行遮蓋。
10、鍍層的導(dǎo)電性,PVD涂層可以精確控制鍍層厚度,可以進(jìn)行導(dǎo)電和不導(dǎo)電真空電鍍(NCVM),而水電鍍的鍍層本身較厚,無(wú)法實(shí)現(xiàn)不導(dǎo)電。
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