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1、與CVD技術(shù)相比PVD涂層的優(yōu)勢

PVD涂層可用于HSS & 硬質(zhì)合金材料之上而CVD只可用于硬質(zhì)合金，較低的工藝溫度，可以保持刃部的鋒利，壓縮殘余應(yīng)力可以阻止涂層裂紋擴(kuò)散，更加細(xì)小的晶粒(平滑)，更高的硬度可實現(xiàn)非平衡的成分，而CVD工藝不可能，更清潔的工藝過程，環(huán)保

2、與CVD技術(shù)相比 PVD涂層的劣勢

與CVD所形成的的擴(kuò)散鍵合相比PVD與基材之間的結(jié)合力較差，用于殘余應(yīng)力的緣故，典型PVD涂層厚度為4um而 CVD為12um，多層復(fù)合涂層在CVD工藝之中比PVD (經(jīng)濟(jì)性價差)更加普遍

3、PVD涂層技術(shù)的典型特征工藝

高純金屬材料在高電流，激光或其它技術(shù)條件下被“氣化”材料凝結(jié)在基材上形成希望的涂層在這個過程中沒有化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)生在PVD工藝過程中被“氣化”的源材料通常是固體形態(tài)，被稱之為“靶材”最典型的PVD技術(shù)。高真空，等離子激發(fā)的涂層沉積涂層工藝溫度從25度到450度(可以有遮蔽部位)需要清潔和無污染的表面最好的PVD工藝過程可提供磁控濺射來解釋描述，微米/納米晶粒,堅硬,潤滑的涂層殘余壓應(yīng)力，無邊間效應(yīng)-配合合理的鋒刃處理拋光面可以涂層，涂層后無需熱處理，對于孔或槽有一定的涂層限制。

4、PVD 涂層：影響結(jié)合力的因素

無污染表面: 油脂,氧化層,拋光殘留物必須清理干凈無Z,cd和其它低熔點金屬，無銅想磨削加工物高溫過熱:避免磨削深紋和高表面粗糙度鋒刃預(yù)處理的重要性:鋒利表面需鈍化,正確的拋光磨表面需做后處理，去除白亮層，對于硬質(zhì)合金無鉆流失或鉆表面沉積。

5、PVD涂層種類

豐富的涂層種類：DLC, TiN,TiAlN, CrN,TiCN,AlCrN，TisiN等

應(yīng)用領(lǐng)域：發(fā)動機(jī)零件醫(yī)療器械,切削刀具,工具模具以及有耐磨要求的零件