物理氣相沉積(PVD) 是一種薄膜制備技術,可在真空條件下將材料源(固體或液體)表面物理汽化成氣態原子、分子或部分電離成離子。然后,通過低壓氣體(或等離子體)在基板表面沉積具有特定功能的膜。物理氣相沉積的主要方法有真空蒸鍍、濺射沉積、電弧等離子鍍、離子鍍等。PVD薄膜沉積速度快、附著力強、衍射性能好、應用范圍廣。
DLC主要采用PVD或PACVD工藝,在100℃~300℃的溫度下合成,具有良好的耐磨性、潤滑性,且具有電氣絕緣、化學穩定性和光透性。鍍膜可覆蓋鐵或非鐵金屬及塑料、陶瓷。主要碳素涂層根據氫含量和原子間的結合構造分為DLC(a-C:H)、ta-C和Diamond涂層。
那么PVD涂層與DLC涂層有哪些區別呢?今天納隆小編就從三個維度為大家分析。
2. 涂層硬度不同:PVD涂層硬度大多在1000-4000HV之間,DLC涂層硬度一般為2000HV-9000HV以上,具有更好的耐磨性、抗腐蝕性和潤滑性。
3.膜層的特性有所不同,PVD鍍膜后的膜層,具有耐磨損,耐腐蝕,顏色亮麗多樣,導電、絕緣等特性,DCL(膜層和PVD鍍膜相比,DLC膜層的硬度更高,摩擦系數更低,更耐腐蝕,環保且抗粘附性更好。
4.用途有所不同,PVD鍍膜廣泛應用于數碼產品、飾品、手表、智能穿戴產品、醫療器械、半導體、消費類電子產品等領域,而DLC廣泛應用于機械功能領域,比如鉆頭、銑刀、模具及其輔助模具、剪刀、軸承、等領域。
5.涂層制備方法不同,PVD鍍: PVD鍍的方法有,真空蒸鍍、濺射鍍膜、電弧等離子體鍍、離子鍍膜,及分子束外延等,DLC: DLC的方法有真空蒸發、濺射、等離子體輔助化學氣相沉積、離子注入等。
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